二元微透鏡陣列采用先進的半導體微納加工工藝，通過2至16階浮雕臺階結構精密逼近理想光學曲面。該技術可在0.248μm至10μm的寬光譜范圍內工作，支持圓形、矩形、六邊形等多種單元構型，口徑覆蓋0.01mm至4mm。選用石英、硅、鍺等材料基底，衍射效率高達95%，兼具高精度與高性價比。其卓越的光束勻化、分束與波前調控能力，是激光加工、3D傳感、光場成像及紅外制導等高端系統的核心光學元件，為現代光電應用提供高效解決方案。
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二元微透鏡列陣
二元微透鏡列陣指的是利用臺階狀的面形結構來趨近于連續浮雕結構的微透鏡列陣。該元件利用二元掩模通過多次套刻完成多個臺階結構的制備，可制備結構指標參數如下：
波段范圍：0.248μm ~10μm；
子口徑形狀：圓形、矩形、正六邊形、環形等
子透鏡口徑：0.01mm~4mm
透鏡材料：石英、硅、鍺、硒化鋅等
典型臺階數：2、4、8、16
衍射效率：75%~95%
| 波長（μm） | 子口徑（μm） | 子口徑形狀 | 焦距（mm） | 列陣數 | 基片尺寸(mm) |
| 1.064 | 275×275 | 四邊形 | 8 | 30×30 | φ14×3 |
| 1.064 | 1000×1000 | 四邊形 | 30 | 16×16 | φ30×5 |
| 0.55 | 1680（平行對邊） | 六邊形 | 29.7 | 37×37 | φ14×3 |
| 0.5 | 1680（平行對邊） | 六邊形 | 69.8 | 7×9 | φ20×3 |
| 1.064 | 1750×1750 | 正方形 | 90 | 6×6 | φ20×3 |
